產品介紹
【純水設備】單晶硅等硅材料、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、光電器件、各種電子器件、微電子工業、需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。目前對其清洗和生產的水質精度要求都比較高，電阻度一般要求大于10兆歐/厘米； 其主要工藝如下：
1、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
2、采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點純水設備
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