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預處理→陽床/陰床→混床 | 需大量酸堿 | 有化學污染 |
預處理→RO裝置→混床 | 需酸堿 | 有化學污染 |
預處理→RO裝置→EDI | 免酸堿免人工,24小時不間斷 | 無化學污染 |
*不需化學再生藥劑
*生產過程無任何污染,屬清潔生產
*不需要停機再生
*生產質量穩定的,電阻率高達15-18MΩ·cm的高純水
*運行穩定可靠,維護簡單、運行費用低
*占地面積小
2.10.3 EDI的主要作用和適用范圍
超純水經常用于微電子工業、半導體工業、發電工業、制藥行業和實驗室。EDI純水也可以作為制藥蒸餾水、食品和飲料生產用水、化工廠工藝用水。
2.10.4 EDI工作原理
圖4.1是EDI膜堆的工作原理圖。
EDI電去離子膜堆同時進行著如下三個主要過程: 1) 陰、陽混合離子交換樹脂上的OH- 和H+ 離子對水中電解質離子的離子交換過程(從而加速去除純水室內水中的離子);2)在外電場作用下,水中電解質離子通過離子交換膜進行選擇性遷移的電滲析過程;3) 電滲析的極化過程所產生的H+和OH-及交換樹脂本身的水解作用對交換樹脂進行的再生過程。這三個過程同時發生,相互促進,實現了EDI連續去離子。

圖4.1 EDI工作原理圖
2.10.5 EDI進水要求
為了保證 EDI 膜塊在使用中能發揮效果,必要的進水條件,是需要滿足的。
水源 | 反滲透 RO 產水;電導率≤10μ S/cm |
PH 值 | 6.5--8.5 |
溫度 | 5℃--38℃ |
進水壓力 | 0.2—0.4MPa |
硬度 | ≤1ppm(以 CaCO3 計) |
有機物 | TOC 小于 0.5ppm(建議檢測不出) |
氧化劑 | 活性氯(Cl2)小于 0.05ppm; |
臭氧(O3) | 小于 0.02ppm |
重金屬離子 | 小于 0.01ppm Fe、Mn、變價性金屬離子 |
硅 | 小于 0.5ppm(以 SiO2 計) |
總 CO2 | 小于 3ppm,當 CO2 含量大于 3ppm 時,可加NaOH 調節 PH值 |
顆粒物 | ≤1μ m |












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