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uv光催化設(shè)備裝置工藝原理

光化學(xué)利用高強輻照場對惡臭物質(zhì)的破壞作用和氧對惡臭物質(zhì)的氧化去除作用來去氣體中的硫化氫、苯系物、甲硫醇、芳香烴等 VOC（揮發(fā)性有機物），并利用氧在強輻照下分解所產(chǎn)生的活潑的次生氧化劑來氧化有害物質(zhì)，輻照場和氧一道，存在著一個協(xié)同作用，這種協(xié)同作用使該技術(shù)對惡臭去除的速率得到7至9 個數(shù)量級的增加，即反應(yīng)速度增加千萬至十億倍。輻射與惡臭氣體分子的相互作用可以看作是輻射場（震蕩電場）與電子（震蕩偶極子）會聚時的一種能量交換。硫化氫等惡臭氣體分子在輻照射線的作用下，物質(zhì)分子的能態(tài)發(fā)生了改變，即分子的轉(zhuǎn)動、振動或電子能級發(fā)生變化，由低能態(tài)被激發(fā)至高能態(tài)，這種變化是量子化的。量子化反應(yīng)并結(jié)合過濾凈化、吸附凈化等技術(shù)達(dá)到惡臭氣體凈化和達(dá)標(biāo)排放的目的。