OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐，專為生長各種納米線而設計，基片3英寸. 在法蘭的左側裝有一個小加熱器，可對輸入的氣體、液體、固體進行預加熱，然后 進入 CVD 爐進行納米線的生長, 可滑動的樣品架使操作更為簡單。
技術參數
名稱 生長納米線的CVD爐 --OTF-1200X-4-NW 視頻 儀表操作視頻 工作溫度 CVD爐： 工作溫度：1100℃（<2hour） 連續工作溫度：200~1000℃ 升溫和降溫速率：10℃/min 小加熱器： 連續工作溫度：0~500℃ 升溫和降溫速度：10℃/min 加熱區 CVD爐：400mm 小加熱器：150mm 爐子和預加熱器 緊湊型CVD爐是由OTF-1200X-4單溫爐演變而來。 內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命 石英管：4.33" OD×4.05"ID ×15" L 工作溫度：1100℃ 右邊帶樣品支架的法蘭是滑動的，方便操作在加熱器和CVD爐之間的法蘭是預加熱氣體的通道，同時也起密封作用。 在爐子左側的小加熱器是對輸入CVD爐的氣體、液體、固體或混合物進行預加熱。 1.2" OD×6"L SS作為加熱腔小加熱器工作溫度：600℃ 左邊法蘭具有密封性和氣體通道的作用。 溫度控制 CVD爐和加熱器 PID/自整定的數字控制，具有30段可控程序 熱偶：K type 控溫精度：±1℃ K型熱電偶 可用計算機進行控制，相關硬件和軟件如下（選配） 真空和密封法蘭 CVD爐：右法蘭： 水冷避免O型圈融化（水冷機可選配） KF25真空快接（可與真空泵、波紋管、真空閥等連接） 可滑動使客戶操作更簡單，樣品可快速送入和取出。 一個石英樣品支架（3"dia），與石英擋板滑動法蘭連成一體。 左法蘭（在CVD爐和小加熱器之間），裝有4個，1/4"卡套連接的通氣管。 法蘭上有兩個獨立1/4"口，可單獨將任何氣體通入CVD爐。 一路1/4"口將預熱氣體通入CVD爐。 一路1/4"口將不加熱的氣體通入CVD爐（在CVD爐內，通過“T"性結構與加熱氣體匯合。） 額定電壓 單相AC220V，50/60Hz。 額定功率 3KW（要求20A空開） 外形尺寸 1200（L）×450(W)×510(H) mm 重量 100Kg 質量認證 質保期 電器部分保修一年（耗材：爐管、O型圈、加熱元件等不包含在內）。
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